怎樣檢測全自動反滲透純水處理設備的膜是否污染與清潔方法
文章作者: 宏森環(huán)保
當前全自動反滲透純水處理設備在國內各行業(yè)中廣泛是使用，多用于醫(yī)藥、電子、化工、醫(yī)院等行業(yè)，宏森環(huán)保核心技術主要采取反滲透工藝，已達到實驗室、醫(yī)院等行業(yè)的純化水的制取和需求要求。
在全自動反滲透純水處理設備正常運行一段時間后，反滲透膜元件會受到在給水中可能存在的懸浮物質或難溶物質的污染，這些污染物中較常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物。污染物的性質及污染速度與給水條件有關，污染是慢慢發(fā)展的，如果不早期采取措施，污染將會在相對短的時間內損壞膜元件的性能。定期檢測系統(tǒng)整體性能是確認膜元件發(fā)生污染的一個好方法，不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。下面宏森環(huán)保讓你了解常見污染物及其去除方法：
1、碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)而導致給水PH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積。出來，應盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3.0～5.0之間運行1～2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。
2、硫酸鈣垢
清洗液2是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的較佳方法。
3、金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。
4、硅垢
對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除，有關的詳細方法清與公司聯(lián)系。
5、有機沉積物
有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)公司認可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡。一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，較好采用消毒處理，請與海德能公司會商以確定適宜的殺菌劑。
6、清洗液
清洗反滲透膜元件時建議采用所列的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇較佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出較佳的清洗方法提供依據(jù)。對于無機污染物建議使用清洗液1。對于硫酸鈣及有機物建議使用清洗液2。對于嚴重有機物污染建議使用清洗液3。所有清洗可以在較高溫度為華氏104度(攝氏40℃)下清洗60分鐘，所需用品量以每100加侖(379升)中加入量計，配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水，應采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來配制溶液并混合均勻。
